羅芬Ronfin激光氣體認證供應商名錄 查看詳情

在氣相色譜-質譜(GC-MS)聯用分析中,除氦氣外,迄今尚未見到有用其他氣體作載氣的報道。本實驗對氫氣替換氦氣作為氣相色譜-質譜聯用儀的載氣情況進行了考察。1實驗部分1.1儀器與試劑HP6890氣相色譜儀,HP5973台... 查看詳情

氦氣具有的不易液化、穩定性好、擴散性強等特點，使它既能在天然氣藏中富集，又能垂向運移至地表。氦有大氣氦、殼源氦和幔源氦3種來源。^3He主要來源於地幔；^4He主要來源於地殼，通常以R／Ra來表示氦的來源。氦氣具有豐富的... 查看詳情

四氟化碳（CF4）是目前微電子工業中用量最大的等離子體蝕刻氣體，廣泛用於矽、二氧化矽、氮化矽、磷矽玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表麵清洗、太陽能電池的生產、激光技術、低溫製冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、控製宇宙火箭姿態... 查看詳情

Mostcompressedgascylindersrequiretheinstallationofatleastonevalve.Thisvalveallowsthecylindertocontaingasesanda... 查看詳情

**銅管有限公司一期工程氮氣站建設項目位於珠海市金灣區紅旗鎮紅旗工業區小林山南金灣區工業園珠海大道雙林路東，總用地麵積665.2m2（一期工程）。總投資**元，生產定員5人。該氮氣站屬珠海龍豐精密銅管有限公司分包項目，隸... 查看詳情

高純二氧化碳生產技術及市場調研報告高純二氧化碳市場調研報告目錄第一章高純二氧化碳概述第一節高純二氧化碳定義及介紹第二節高純二氧化碳概述及用途第二章高純二氧化碳技術發展現狀及趨勢第一節國內外高純二氧化碳技術工藝研發現狀第二... 查看詳情

電子混合氣體廣泛用於大規模集成電路（L.S.I）超大規模集成電路（V.L.S.I）和半導體器件生產中，主要用於氣相外延（生成）、化學氣相澱積、摻雜（雜質擴散）、各類蝕刻和離子注入等工藝中。 查看詳情

通常，高純氣體係指氣體中含較少雜質氣氛（純度），微量水份（幹燥度）汙染物粒子的婁量保持在最低限度，其粒度也應是最小的（潔淨度）。因此，對於高純氣體，純度、幹燥度、潔淨是三項重要的標度。特別是近10年來，隨著更複雜、更密集... 查看詳情

工業氣體是指氧、氮、氬、氖、氦、氪、氙、氫、二氧化碳、乙炔、天然氣等。由於這些氣體具有固有的物理和化學特性，因此在國民經濟中占有舉足輕重的地位，推廣應用速度非常快，幾乎滲透到各行各業。工業氣體用量最多的傳統產業有：煉鋼、... 查看詳情