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廣州市譜源氣體有限公司
氬（Ar）對氮（N2）介質阻擋放電光譜的影響
2012-5-25 9:27:13
近年來，金屬氮化物因其具有卓越的性能，如硬度和耐磨性較好、耐腐蝕性高、導熱性好、熔點高、熱膨脹係數低、保溫性能高以及壓電常數較大，在光學、電子、汽車和航空航天行業具有廣泛的應用。因此，在各種基體上鍍上一層金屬氮化物薄膜通常是必不可少的。
大氣壓等離子滲氮因其工業化前景獲得格外關注，但研究者多關注於工藝參數對金屬氮化物薄膜性能的影響，對等離子體改性過程中光譜輻射特性的研究較少。同時為獲得穩定的N2等離子體放電，通常在反應器中添加一定量的氬氣。本文采用在線光譜技術對氮氣輔助氣體氬氣及混合氣體介質阻擋放電等離子體進行光譜特性研究。
利用發射光譜法研究了大氣壓下純氣體以及少量Ar對N2介質阻擋放電等離子體的光輻射特性變化規律，得到以下結論：在N2裏添加少量Ar時，氮氣譜線增強尤為顯著，386.3nm和418.9nm兩條譜線增強尤為顯著，說明氮分子的激發會由於亞穩態亞原子的潘寧激發效應傳能而增強，氣體的成分及其比例能影響內部的能量傳輸特性以及放電的發光特性。
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