高純氨氣技術指標及用途

高純氨主要用途？

高純氨（NH3）主要用於製造高質量的氮化物。氮化镓（GaN）和氮化矽（Si3N4）前者是製造發光二極管的基礎，而後者廣泛應用於太陽能電池（光伏）、集成電路（IC）和液晶顯示器（LCD）的製造。

高純氨應用原理？

【1】Ga(CH3)3+ NH3 → GaN + 4CH4；

這個反應是製造發光二極管（LED）外延芯片的氮化镓的基 礎，反應在昂貴的 MOCVD （有機金屬氣相沉積）設備上完成。

【2】3SiH4 + 4NH3→ Si3N4 + 12H2；

這個反應是製造氮化矽（Si3N4 ）的基礎，由矽烷（SiH4 ）和高純氨在較高溫度下，在化學氣相沉積（CVD）設備中進行反應，此反應也需要相當數量的高純氨氣。

為什麽要使用高純氨？

假如氨的純度不夠高，例如氨中混有一些水（氨極易溶於水，而且国产av资源周圍環境中到處都是水），會有什麽後果呢？

矽烷會先跟水（而不是跟氨）反應：

SiH4 + 2H2O → SiO2 + 3H2；

實際上，隻要氨中水含量達到萬分之一，水基本上就完全代替氨從而和矽烷反應，反應生成的是 SiO2 而不是 Si3N4，這樣就無法滿足電子工業嚴格要求的工藝條件了，其中的原因在於水比氨更容易與矽烷反應結合，生成的SiO2 也比 Si3N4更穩定。要想讓 LED的發光增強，那就要設法增多其中的電子和空穴（稱為載流子），這樣就對高純氨的純度提出了非常高的要求，實驗已經證明，高純氨中的水會首先反應生成穩定的 SiO2 ，而SiO2是不能貢獻電子的，這樣也無法獲得 n 型 GaN。會極大地影響到 LED的亮度，原因就在於高純氨中的微量水會大大降低載流子的濃度。

使用不純的高純氨（含水的氨）， 在芯片製造中就會生成更穩定的氧化物而不是氮化物，從而降低甚至摧毀芯片的性能。